마스크(Mask) 표면을 대기중 분자나 다른 형태의 오염으로 부터 보호해 주는 박막입니다 . 막은 양극 산화된 알루미늄

프레임에 부착된 후 다시 레티클 위에 단단히 부착되어집니다. 일반적으로 펠리클은 반도체노광장비, 프로젝션 얼라이너(Projection Aligner)에서는 레티클의 한쪽 크롬(Cr)면에, 스텝퍼(Stepper)에서는 레티클의 크롬면과 유리면 양쪽에 부착되어 웨이퍼 이미지에 영향을 주지 않도록 합니다.

2. Chiller

식각 및 Depo. 공정에서 과도한 열의 발생에 대해 Chamber 내의 Wafer나 주변온도를 일정하게 유지함으로서

공정효율을 개선하는 장비입니다. 점차 공정이 고정밀화 대구경화 되어감에 따라 보다 더 사용자화 된 장치의 공급을

목적으로 Chiller의 지속적인 발전이 요구되고 이에 따라 다양한 기초 기술 및 설계기술이 기반이 된 제품이 제작되고

있습니다.

3. Scrubber

반도체 및 디스플레이 공정에서 정화용으로 사용되는 대기오염 제어 장치로써, 제조공정에서 발생하는 유해가스 제거를 

목적으로 하며, 높은 가공 능력 뿐만 아니라, 그에 따른 최적화된 시스템을 통해 효율적인 비용으로 유지보수가 용이합니다.

공정조건에 따라 흡수제, Plasma, Burn, Heat, Wet 등 다양한 종류가 있습니다

4. Solution Business

 사업영역은 미국, 유럽, 아시아의 10여개 다국적 반도체 회사와 전략적 제휴를 통하여 센서반도체, 전력전자반도체, 

 LED, MCU 등을 관련 산업 (휴대폰, LCD TV, LCD패널, 모니터,셋탑박스, 가전제품, Computer, 통신 Network, 

 자동차 등)에 기술자원, 영업 및 마케팅을 주요 사업으로 하고 있습니다.

5. Advanced Product Solutions

기존 FST의 대표 사업분야인 Pellicle과 TCU 사업 외에 차세대 기술 개발에 매진하고 있습니다. EUV Lithography로 대변되는 차세대 반도체 공정에 도입 가능한 EUV Infrastructure에 대한 다양한 검사 기술 및 Solution을 제공하는 대한민국 유일의 EUV Solution Provider가 되기 위해 국내외 유수의 연구기관과 함께 최고의 기술 개발에 구슬땀을 흘리고 있습니다.

- EUV Pellicle Mounter/Demounter System

- EUV Pellicle Inspection System 

- EUV POD Inspection System

- EUV Source Generation System 

- MERCURY (Optical Pellicle & Mask Inspection System)

- PRIME Series (ArF, KrF Pellicle Inspection System) 

1. Pellicle

A pellicle is a thin membrane stretched over an aluminum frame and glued to the photomask to protect it from contaminants, such as particles. Even if particles sit on the membrane, they are not printed on the wafer because they are out of focus during the exposure from the lithography process.

2. Chiller

The Chiller of FST is an equipment that improves process efficiencies by constantly maintaining inside-chamber wafer and its surrounding temperatures, through the excessive heat produced in semiconductor etching process. As the process becomes more micro and solid, continuous development of Chiller is requested for more customized equipment supply.

Accordingly, products of various fundamental technology and design technology basis are being manufactured.

3. Scrubber

Scrubber aims to remove unwanted, harmful gases generated from semiconductor and display manufacturing processes. FST Scrubber promises not only a high capability in processing, but also the cost-efficient and easy maintenance through optimized system by processing capacity. FST Scrubber exists in various types, such as absorbent, Plasma, Burn, Heat, Wet, depending on the process conditions.

4. Solution Business

Our Solution Division has formed strategic partnerships with more than 10 multinational companies in the United States, Europe, and Asia, working on technical support, sales, and marketing of sensor semiconductors, electronic semiconductors, LEDs, MCU, as well as other products (cell phones, LCD TVs, LCD panels, monitors, set-up boxes, home appliances, computers, communication networks, vehicles, etc.)

5. Advanced Product Solutions

In addition to FST's legacy businesses - pellicle and temperature control units,
FST's Tech Center develops next-generation technologies to prepare for the future.
In collaboration with various institutions, we focus on technologies related to infrastructure tools and modules needed for EUV lithography.
By providing cutting-edge EUV solutions to our customers, we will strive to become the world's renowned EUV solution provider.

- EUV Pellicle Mounter/Demounter System

- EUV Pellicle Inspection System 

- EUV POD Inspection System

- EUV Source Generation System 

- MERCURY (Optical Pellicle & Mask Inspection System)

- PRIME Series (ArF, KrF Pellicle Inspection System)